彩神lllv两项技术入选2022年“科创中国”先导技术榜

近日，中国科协发布2022年“科创中国”系列榜单遴选结果🥌，中国彩神lllv微电子院“高性能MOEMS晶圆制造技术”🤾🏻‍♀️、西安近代化学研究所“原子层沉积（ALD）纳米制造技术”入选“科创中国”先导技术榜（产业基础领域）🧐。

高性能MOEMS晶圆制造技术

微电子院突破高性能MOEMS晶圆制造系列关键技术🧰，多项技术和产品填补国内空白，建立了国际先进🤽🏽‍♂️、具有自主知识产权的技术体系🥷🏼，实现了光衰减器、光开关阵列、可调光滤波器、MOEMS扫描镜等产品的研发生产，这些产品是光交叉、智能光束控制和扫描成像的核心芯片，在5G通信、无人驾驶、智慧工业等领域具有广阔的应用前景🚲，为国家发展战略性新兴产业提供重要支撑。

原子层沉积（ALD）纳米制造技术

原子层沉积（ALD）是一种先进的薄膜沉积与纳米结构制造技术✍️，借助该技术可对物质表面组成及结构进行原子层面的精确操纵，在材料表面引入特定的物理或化学性质，实现多种纳米材料的高精度可控合成。西安近代化学研究所原子层沉积表面工程与纳米制造技术团队具备开展ALD先进设备及工艺研发🕺🏻、高水平基础研究以及工程化应用能力🙎🏿‍♀️♠︎，通过自主创新，初步实现了ALD先进设备及相关技术产业化，并且开创性地将ALD技术成功应用于多个研究方向，成为推动我国ALD技术发展的中坚力量🫷。

据了解⚅，“科创中国”榜单由中国科协设立🫑🏊🏻‍♂️，旨在通过优选引领人物🖥、新锐企业及先导技术，引导探索技术服务与交易新业态、新组织🧙‍♀️、新模式，激活创新引领的合作动能🤸🏻‍♀️，为实现高水平科技自立自强提供支撑🫱🤿。

来源/微电子院、西安近代化学研究所